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納米膠體磨的基本原理和特點(diǎn)概述

 更新時(shí)間:2020-09-25 點(diǎn)擊量:916
   納米膠體磨的基本原理:
  在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。
 
  在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎,精磨區(qū)分三級(jí),越向外延伸一級(jí)磨片精度越高,齒距越小,線速度越長(zhǎng),物料越磨越細(xì),同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。
 
  通過高速相對(duì)連動(dòng)的定齒與動(dòng)齒之間,使物料受到強(qiáng)大的剪切力,磨擦力及高頻振動(dòng)等作用,有效地被粉碎、乳化、均質(zhì)、混合,從而獲得滿意的精細(xì)加工的產(chǎn)品。
 
  納米膠體磨的特點(diǎn):
  1、它是將高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改進(jìn),在原來的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改進(jìn)成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改進(jìn)型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成。
 
  2、簡(jiǎn)單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來講,原先兩臺(tái)設(shè)備的價(jià)格,現(xiàn)在用一臺(tái)研磨分散機(jī)就可以完成,性價(jià)比更高。
 
  3、全新的設(shè)計(jì)理念,超高設(shè)備剪切力,以及穩(wěn)定的設(shè)備運(yùn)行。